GAS SUPPLY

氣體供應

INDUSTRIAL GAS
工業氣體

氣體在工業上有著廣泛的使用。常見的工業氣體包含純氣體或氣體混合物，通常以氣體鋼瓶的型式提供，針對大量使用之客戶，另有提供杜瓦桶或集束設備，以因應快速且大量的供氣需求。應用產業包含石油、化工、化學、電能、煉鋼、金屬、環境保護、醫學、藥品、生物技術、水利、肥料、核動力、電子學及航空業等。

— 更多供氣方式選擇，包含各種尺寸的鋼瓶、集束、杜瓦桶
— 定期保養汰換容器設備，有助於客戶降低成本並提高安全

鋼瓶氣體 Cylinder Gas

  • 氧氣 O2
  • 乙炔 C2H2
  • 氬氣 AR
  • 氦氣 He
  • 氮氣 N2
  • 甲烷 CH4
  • 乙烷 C2H6
  • 丙烷 C3H8
  • 丁烷 C4H10
  • 乙烯 C2H4
  • 丙烯 C3H6
  • 二氧化碳 CO2
  • 一氧化碳 CO
  • 二氧化硫 SO2
  • 四氟化碳 CF4
  • 六氟化硫 SF6
  • 合成空氣 AIR
  • 一氧化氮 NO
  • 二氧化氮 NO2
  • 三氟化氮 NF3
  • 一氧化二氮 N2O
    (笑氣購買須附核可文件)

鋼瓶氣體 Cylinder Gas

  • 焊接氣體 H2/N2
  • 焊接氣體 CO2/Ar
  • 標準氣體 Bal. N2
  • 氬氣雷射 Bal. Ar
  • 氪氣雷射 Bal. Ne
  • 氖氣雷射 Bal. Ne
  • 氙氣雷射 Bal. Ne
  • 氯氣雷射 w/w < 1%
  • 氟氣雷射 w/w < 1%
  • 二氧化碳雷射 Bal. He
  • 準分子雷射 Bal. Ne/He

鋼瓶氣體 Cylinder Gas

  • 液態氮氣 LN2
  • 液態氧氣 LO2
  • 液態氬氣 LAR
  • 液態氦氣 LHE
  • 液態二氧化碳 LCO2
雷射混合氣F2HClArHeKrXeNe
193 nm ArF0.17 %5.33 %16.5 %78 %
0.16 %6.25 %2.97 %90.62 %
248 nm KrF0.12 %2.3 %3.03 %94.55 %
0.09 %1.68 %3.82 %94.41 %
0.13 %2.44 %3.42 %94.02 %
308 nm XeCl0.13 %2.34 %1.87 %95.63 %
0.08 %1.56 %2.78 %95.56 %
351 nm XeF0.18 %3.45 %0.46 %95.91 %
0.20 %12.83 %0.45 %85.62 %

HIGH PURITY GAS
超高純度氣體

我們製作超高純度的氣體以供更精密的產業使用。氣體中的雜質可能影響設備出現問題，甚至導致良率下降。選擇更適用的超高純度氣體或混合氣以大幅提高生產競爭力。

— 不純物總和降至1ppm以下，最高純度達到99.9999%以上
— 更靈敏的檢測極限以支援高階精密製成
— 除去更多有害雜質，延長設備使用壽命並減少錯誤發生
  • 氧氣 O2 5N / 5N5 / 6N
  • 氫氣 H2 5N / 5N5 / 6N
  • 氬氣 AR 5N / 5N5 / 6N
  • 氦氣 He 5N / 5N5 / 6N
  • 二氧化碳 CO2 5N / 6N
  • 零級空氣 ZERO AIR 5N5
  • 氮氣 N2 5N / 5N5 / 6N
  • 甲烷 CH4 4N / 5N
  • 乙炔 C2H2 4N / 4N5
  • 六氟化硫 SF6 4N / 5N5
  • 四氟化碳 CF4 6N
  • 三氟化氮 NF3 5N
  • 一氧化氮 NO 3N
  • 鹽酸 HCl 4N / 5N
  • 氨氣 Ammonia NH3 6N
  • 氘氣 D2 5N
  • 氖氣 Ne 5N / 5N5 / 6N
  • 氪氣 Kr 5N / 5N5
  • 氙氣 Xe 5N / 5N5
  • 一氧化二氮 N2O 5N
GasArgon 氬氣Oxgen 氧氣Helium 氦氣Nitrogen 氮氣Neon 氖氣Krypton 氪氣Xenon 氙氣
Purity99.9999 %99.9995 %99.9999 %99.9999 %99.9995 %99.9995 %99.9999 %
H2O≤ 0.5≤ 1.0≤ 0.5≤ 0.5≤ 2.0≤ 2.0≤ 2.0
Oxygen≤ 1.0-
≤ 0.2≤ 0.2≤ 1.0≤ 1.5≤ 1.5
Nitrogen≤ 0.5≤ 1.0≤ 0.5-≤ 2.0≤ 2.0≤ 2.5
Argon-≤ 1.0≤ 0.2≤ 0.2≤ 1.0≤ 1.5≤ 1.5
Carbon Dioxide≤ 0.05≤ 0.1≤ 0.05≤ 0.05≤ 0.2≤ 0.3≤ 0.3
Carbon Monoxide≤ 0.05≤ 0.1≤ 0.05≤ 0.05≤ 0.2≤ 0.4≤ 0.2
THC≤ 0.05≤ 0.1--≤ 0.1≤ 0.3≤ 0.3
Hydrogen≤ 1.00≤ 0.1-≤ 0.05≤ 1.0≤ 0.5≤ 0.5

ELECTRONIC GRADE GAS
電子級氣體

提高良率已成半導體製程中不斷努力的課題，使用合適的氣體絕對是達成目標的重點之一。我們提供超高純度氣體的各種選擇，其閥件、容器及管線也是不可忽視的變因。整套專業的服務將協助您達成半導體製造流程的最高標準。

— 供應上百種超高純度氣體及精密混合氣體選擇
— 無論大量供應或小包裝研發使用皆可達成
— 選擇合適的閥件有助於製程良率之提升
  • 氨 Ammonia
  • 氯氣 Chlorine
  • 氯化氫 Hydrogen Chloride (HCl)
  • 硫化氫 Hydrogen Sulfide
  • 一氟甲烷 Methyl Fluoride (CH3F)
  • 甲基矽烷 Methyl Silane
  • 三氟化氮 Nitrogen Trifluoride
  • 八氟環丁烷 Octafluorocyclobutane
  • 八氟環戊烯 Octafluorocyclopentene
  • 八氟丙烷 Perfluoropropane
  • 四氯化矽 Silicon Tetrachloride
  • 四氟化矽 Silicon Tetrafluoride
  • 四氟甲烷 Tetrafluoromethane
  • 三氯甲矽烷 Trichlorosilane
  • 三氟甲烷 Trifluoromethane
  • 三氯化硼 Boron Trichloride (BCL3)
  • 三氟化硼 Boron Trifluoride
  • 二氧化碳 Carbon Dioxide
  • 一氧化碳 Carbon Monoxide
  • 羰基硫COS Carbonyl Sulfide
  • 一氧化氮 Nitric Oxide
  • 甲矽烷 Silane
  • 丙矽烷 Silcore
  • 三氟化氯 Chlorine trifluoride (CLF3)
  • 二氯矽烷 Dichlorosilane
  • 二氟甲烷 Difluoromethane (CH2F2)
  • 乙矽烷 Disilane
  • 六氟乙烷 Hexafluoroethane
  • 六氟化鎢 Tungsten Hexafluoride
  • 六氟化硫 Sulfur Hexafluoride
  • 氬氣 Argon
  • 氧氣 Oxygen
  • 氫氣 Hydrogen
  • 氮氣 Nitrogen
  • 氦氣 Helium
  • 甲烷 Methane
  • 乙烷 Ethane
  • 乙烯 Ethylene
  • 丙烯 Propylene
  • 氪氣 Krypton
  • 氖氣 Neon
  • 氙 Xenon
  • 氘氣 Deuterium (D2)
  • 笑氣 Nitrous Oxide
  • (購買須附核可文件，我司管編F15A9338)
同位素氣體 : 氧氣 O2 - 18O 、 甲烷 CH4 - 13C 、 氨氣 NH3 - 15N 、 二氧化碳 CO2 - 13C 、 一氧化碳 CO - 13C 、 氘氣 Deuterium 、 水 H2O - 18O 等等

FOOD GRADE GAS
食品級氣體

進料檢驗

合格入槽

精製純化

檢測分析

填充出貨

作為食品加工輔助物或添加劑使用，食品級氣體需符合「食品級」規定．常見的主要氣體．包括二氧化碳、氮氣，可以單獨或是混合使用。選擇純氣體或混合氣時，要考慮氣體特性以及氣體與食品配料間的相互作用，如氣體在食品內的溶解性或其影響。 我們提供食品級二氧化碳(FCO2)、氮氣(FN2)，以及允許納入食品加工的其他氣體，包裝容器包含高壓鋼瓶、鋁瓶，或是以液化形式儲存於杜瓦桶內，以供客戶選擇最適合的使用方式。大至食品製造工廠的產線供應，小至零售店的客製化服務，針對食品氣體供應，我們累積許多經驗去對應各種特殊狀況及需求以作為客戶最堅強的後盾。慶豐氣體食品登錄字號 F-122605593-00000-5
鋼瓶、鋁瓶供應杜瓦桶、貯槽供應
FCO23.4 L、5 L、10 L、40 L、67 L160 KG、400 KG、10000 KG
FN23.4 L、5 L、10 L、40 L120 KG、400 KG、10000 KG